1.[ 200610032663 ]- 用光纤和铟锡氧化物制作光子扫描隧道显微镜探针的方法 
2.[ 200510032328 ]- 一种铟锡混合物的分离方法 
3.[ 200510037581 ]- 单分散纳米铟锡氧化物粉末的制备方法 
4.[ 200510021276 ]- 采用中频反应磁控溅射铟锡合金靶制备ITO膜的方法及系统 
5.[ 200510050544 ]- 氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺 
6.[ 200510072252 ]- 纳米级氧化铟锡复合粉体的制备方法 
7.[ 200510072250 ]- 铟锡氧化物前驱物浆料制备和ITO薄膜制备方法 
8.[ 200510016594 ]- 有机电致发光器件铟锡氧化物电极的处理方法 
9.[ 200510010666 ]- 一种纳米铟锡氧化物粉体的制备方法 
10.[ 200510005003 ]- 铟锡氧化物的溅镀工艺与形成铟锡氧化物层的方法 
11.[ 200410074540 ]- 多晶形铟锡氧化物薄膜以及多晶形铟锡氧化物电极的制造方法 
12.[ 200410058984 ]- 热稳定型及低电阻比氧化铟锡膜制法 
13.[ 200410061613 ]- 以感光性铟锡氧化物溶液形成铟锡氧化物图案的方法 
14.[ 200410059420 ]- 在基片上生成光滑铟锡氧化物层的方法及一种基片铟锡氧化物覆层 
15.[ 200480006911 ]- 纳米尺寸的铟锡混合氧化物粉末 
16.[ 03125511 ]- 氧化铟锡粉末的制备方法 
17.[ 03150667 ]- 一种用于半导体器件的铟锡氧化物pn结 
18.[ 03153749 ]- 具铟锡氧化物画素电极的有机发光显示组件的制作方法 
19.[ 03124711 ]- 从铟锡氧化物废靶材中回收铟的方法 
20.[ 03128905 ]- 在红外波段具有低发射率的氧化铟锡粉末及其制备方法 
21.[ 03118371 ]- 铟锡氧化物靶材的制备方法 
22.[ 03116515 ]- 一种氧化铟锡专用银浆料及其制造方法 
23.[ 02150519 ]- 使集成电路可承受高压静电放电的氧化铟锡走线方法 
24.[ 02148916 ]- 增进平坦化氧化铟锡薄膜的方法 
25.[ 02139742 ]- 从铟锡氧化物废料中提取精铟的方法 
26.[ 02125163 ]- 铟锡氧化膜的制造方法 
27.[ 02119111 ]- 构图铟锡氧化物的蚀刻剂和制造液晶显示装置的方法 
28.[ 02813884 ]- 铟锡氧化物的透明导电层状镀层 
29.[ 02119004 ]- 铟锡氧化物溅射靶 
30.[ 01258489 ]- 具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置 
31.[ 01136402 ]- 以水溶液法制备氧化铟锡粉末的方法 
32.[ 01135428 ]- 氧化铟锡膜用浸蚀液 
33.[ 01232335 ]- 有机电致发光显示面板铟锡氧化物电极的电化学蚀刻平坦化装置 
34.[ 01800702 ]- 铟锡氧化物溅射靶 
35.[ 00136711 ]- 高密度铟锡氧化物靶材及其制造方法 
36.[ 00109928 ]- 铟锡氧化物薄膜溶胶--凝胶制备方法 
37.[ 99125713 ]- 金属氧化铟锡复合透明导电薄膜及其制备方法 
38.[ 99810088 ]- 铟锡氧化物的悬浮液和粉末的制备方法及其用途 
39.[ 97239510 ]- 平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机 
40.[ 95109680 ]- 用铟锡氧化物制成的结构部件及其制造方法 
41.[ 89109515 ]- 铟锡氧化物薄膜的腐蚀方法 
42.[ 87107654 ]- 铟锡氧化物透明导电膜生产工艺 
43.[ 200610014471 ]- 一种ITO玻璃镀膜前的半水基清洗液 
44.[ 200610031847 ]- 用ITO固体材料制作ITO玻璃的工艺方法 
45.[ 200610031534 ]- ITO纳米线及其气体传感器的制备方法 
46.[ 200510048899 ]- 具有ITO透明导电膜的基板及其制造方法 
47.[ 200510021275 ]- ITO镀膜板及其制备方法 
48.[ 200510026992 ]- 以ITO为P电极的两次光刻GaN基LED电极制作方法 
49.[ 200480024772 ]- ITO薄膜及其制造方法 
50.[ 200480023856 ]- ITO溅射靶 
51.[ 200480011315 ]- 由氮等离子体处理的ITO膜及使用该ITO膜的有机电致发光设备 
52.[ 200310111223 ]- IN O 或ITO单分散纳米粉体的水热制备方法 
53.[ 200310111226 ]- 高密度ITO靶材及其制造方法 
54.[ 02142453 ]- 借由ITO走线设计改善静电防护方法 
55.[ 02142798 ]- ITO溅射靶 
56.[ 02802353 ]- 带有ITO膜的基板及其制造方法 
57.[ 02803276 ]- ITO溅射靶用氧化锡粉末、该粉末的制造方法、用于形成ITO膜的烧结体溅射靶及该靶的制造 
58.[ 01803102 ]- 氧化铟中固溶锡的ITO粉末制造方法以及ITO靶的制造方法 
59.[ 00818987 ]- 在聚合物基底上沉积IO或ITO薄膜的方法 
60.[ 94191599 ]- ITO烧结体、ITO透明导电膜及此膜的形成方法 
61.直流磁控溅射氧化铟锡薄膜的低温等离子退火研究
62.胶原-氧化铟锡复合红外低发射率涂料的制备及性能研究
63.温度对铟锡氧化物（ITO）前驱体择优生长形貌的影响研究
64.氧流量对铟锡氧化物薄膜光电性能的影响
65.喷雾热解法制备p型铟锡氧化物透明导电薄膜
66.铟锡氧化物（ITO）前驱体的相演变规律研究
67.盐酸体系超低氯含量铟锡氧化物（ITO）球形粉体的制备与研究
68.均相沉淀法制备铟锡氧化物纳米材料的研究
69.铟锡氧化物（ITO）纳米颗粒的制备及表征
70.共沸蒸馏干燥法制备氧化铟锡纳米粉体及其性能表征
71.单分散纳米氧化铟锡粉末的水热合成
72.制备工艺对纳米级铟锡氧化物（ITO）形貌和电性能的影响
73.鲁米诺在氧化铟锡玻璃上的电聚合及电化学发光性能研究
74.Nikko材料公司计划将铟锡氧化物产量提高50％
75.液相共沉淀法制备氧化铟锡超细粉体材料的研究进展
76.共沉淀法制备高比表面积的铟锡氧化物超细粉末
77.碳纳米管可能在显示器件中取代铟锡氧化物
78.从铟锡氧化物废料中提取精铟
79.硫化沉淀法分离ITO废靶浸出液中铟锡的研究
80.铟锡氧化物ITO纳米粉体的共沉淀法合成
81.沉淀法制备氧化铟锡超细材料的研究进展
82.纳米铟锡氧化物粉体的制备及表面改性
83.纳米氧化铟锡透明隔热涂料的制备及性能表征
84.铟锡氧化物导电玻璃上高氮含量氮化碳薄膜的电化学沉积及其性能研究
85.纳米氧化铟锡掺杂的有机玻璃电导率及复介电常数的研究
86.氧化铟锡／银／氧化铟锡多层膜作为阳极的柔性有机电致发光器件
87.可鉴别室内有害气体的铟锡氧化物薄膜气敏特性研究
88.氧化铟锡薄膜隔热效果的计算与分析
89.聚酰亚胺缓冲层改善氧化铟锡导电阳极在聚乙烯基对苯二酸酯柔性基片上附着力的研究
90.热处理对制备纳米氧化铟锡（ITO）粉末的影响
91.磁控溅射陶瓷靶制备氧化铟锡薄膜的XPS和AFM研究
92.聚乙烯咔唑／铟锡氧化物的界面分析
93.氧化铟锡薄膜在光学太阳反射镜上的应用
94.铟锡氧化物及其应用
95.铟锡合金碱法分离的研究
96.平面磁控溅射氧化铟锡卷绕镀膜设备
97.热处理温度对铟锡氧化物纳米粉显微结构的影响
98.工艺参数对氧化铟锡薄膜光电性能的影响
99.ICP－AES法测定金属牙科材料中镓铟锡
100.氧等离子体处理对氧化铟锡表面化学状态影响的ADXPS研究
101.氧化铟锡靶与铟的润湿性研究
102.铟锡氧化物陶瓷靶的现状
103.软X射线辐照引起的铟锡氧化物表面光化学反应
104.基材温度对铟锡氧化物膜结构与电性能的影响
105.铟锡氧化物陶瓷靶材热等静压致密化研究
106.退火温度对铟锡合金薄膜结构和性能的影响
107.铟锡氧化物纳米晶的溶胶凝胶法合成
108.氧化铟锡薄膜的二阶非线性光学特性研究
109.用磁控管溅射技术控制氧化铟锡薄膜的特性
110.铟锡氧化物薄膜的生产现状与应用
111.铟锡氧化物热等静压时分解氧对裂纹形成的作用
112.铟锡氧化物纳米粉的显微结构
113.铟锡氧化物(ITO)靶材的应用和制备技术
114.铟锡氧化物薄膜的生产，应用与开发
115.铟锡氧化物靶材的应用及管状靶材的爆炸成形
116.氧化铟锡透明导电玻璃可见光透射率的研究
117.原子层外延法生产氧化铟锡薄膜
118.透明导电氧化铟锡薄膜的特殊应用
119.氧化铟锡薄膜材料开发现状与前景
120.铜/封口膜/酰化紫膜LB膜/氧化铟锡型菌紫质光电池的光电特性
121.光电器件用铟锡氧化物ITO薄膜的制备及特性研究
122.玻璃基底上铟锡氧化膜和锡氧化膜的刻蚀
123.氧化铟锡(ITO)膜的光学及电学性能
124.氧化铟锡薄膜的气敏特性研究
125.直流三极偏压溅射氧化铟锡薄膜
126.铟锡氧化物透明导电薄膜的化学喷雾淀积法
127.ITO和ZnO基底对电化学沉积氧化亚铜薄膜的形貌、结构的影响及作用机制
128.3种分散剂对ITO浆料稳定性能的影响
129.氧离子辅助反应蒸发法制备ITO薄膜的研究
130.脉冲激光沉积法制备ITO薄膜及性质研究
131.磁控溅射低阻ITO薄膜的气体参数优化
132.柔性衬底ITO透明导电薄膜的光电性能研究
133.ITO导电玻璃及其在平板显示器中的应用
134.溶胶-凝胶旋涂法制备ITO薄膜
135.高阻ITO基板上电化学沉积ZnO薄膜的研究
136.无氧溅射方法制备OLED的ITO透明电极
137.直流磁控溅射ITO薄膜的正交试验分析
138.ITO作为源漏电极的有机场效应晶体管
139.Ar气氛下直流磁控溅射ITO薄膜的结构和性能
140.ITO薄膜的生产技术概况及发展趋势探讨
141.PTCDA／ITO表面和界面的AFM和XPS分析
142.机械活化强化ITO废料中铟浸出的动力学研究
143.ITO／PTCDA／p-Si薄膜器件的表面和界面特性研究
144.ITO陶瓷靶的研究现状
145.ITO决策中的业务、技术、成本分析
146.ITO导电膜玻璃
147.ITO玻璃衬底上PLZT铁电薄膜的制备与电性能
148.液相共沉淀法制备纳米ITO粉体
149.低阻ITO玻璃的制造工艺
150.射频磁控溅射沉积ITO薄膜性能及导电机理
151.直流磁控溅射陶瓷靶制备ITO薄膜及性能研究
152.纳米ITO粉末爆炸压实及后续烧结工艺研究
153.溶胶凝胶法制备ITO透明导电薄膜的工艺研究
154.树脂镜片的ITO薄膜
155.ITO粉末制取工艺综述及分析
156.PTCDA／ITO表面和界面的X射线光电子能谱分析
157.水热法制备ITO薄膜的研究
158.ITO薄膜的能带结构和电导特性
159.在ITO玻璃衬底上制备钛酸铋铁电薄膜
160.在纳米ITO粉末共沉淀法制备过程中pH值的影响
161.ITO镀膜玻璃生产线的自动控制应用
162.ITO及WO3在电解液中的交流阻抗特性
163.一类Ito型非线性时滞关联随机大系统的分散鲁棒控制
164.采用柔性ITO导电膜制备聚合物分散液晶PDLC光开关
165.溶剂热-煅烧法合成纳米ITO粉体
166.a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺研究
167.热处理对直流磁控溅射ITO薄膜光电学性质的影响
168.离子束辅助磁控溅射低温沉积ITO透明导电薄膜的研究
169.ITO薄膜射频磁控溅射法制备及性能研究
170.增敏剂对ITO电极上电聚合鲁米诺电化学发光的影响研究
171.水热条件对ITO粉体制备过程中生成物物相的影响
172.ITO表面处理对有机电致发光器件光电特性的影响
173.彩色膜上ITO的室温沉积及其在FPD中的应用
174.溶胶-凝胶提拉法制备ITO透明导电膜
175.ITO废靶回收制备超细ITO粉末的研究
176.ITO废靶回收再生技术
177.ITO纳米粉制备及表面修饰研究
178.Ito^型随机线性Markov切换系统的可控性
179.爆炸压实烧结ITO陶瓷靶材的实验研究
180.两种不同分散剂对ITO纳米粉末粒度和团聚的影响
181.非线性耦合Ito系统新精确解的符号计算
182.ITO靶材市场将不断扩大
183.用AFM和XPS研究LiBq4／ITO的表面和界面
184.热处理对ITO薄膜的显微结构及光电特性的影响
185.溶胶-凝胶法制备ITO透明导电薄膜的研究进展
186.ITO透明导电膜的制备及性能研究
187.ITO材料在减反射膜设计中的应用
188.ITO表面研磨处理对有机电致发光器件性能的影响
189.一类Ito型非线性随机大系统的分散鲁棒镇定
190.DLED用ITO导电玻璃研发现状
191.纳米ITO粉末制备工艺优化设计
192.ITO导电膜红外发射率理论研究
193.ITO薄膜的制备及其光电特性研究
194.苯封四聚苯胺／TiO2／ITO薄膜电极光致界面电荷转移
195.低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜
196.ITO玻璃上鲁米诺的电化学发光行为研究
197.氧等离子体处理改善ITO电极表面湿润性
198.氨气和氮气气氛下热处理对ITO薄膜光电性能的影响
199.热处理温度对纳米ITO粉体形成的影响
200.高效多能的ITO膜系镀膜玻璃